PROPPO

Close-up of Photolithography Mask Patterns on Silicon Wafer

尺
10s
解像度
3840x2160
フレームレート
24fps
ファイルサイズ
109 MB

元素材 1920×1080 を AI高解像度化（アップスケール）により 4K に高精細化しています。 ネイティブ4K撮影素材ではありません。

識別名シリコンウェハー上のフォトリソグラフィマスクパターンのクローズアップ
カテゴリテクノロジー
タグ#photolithography#silicon wafer#mask patterns#semiconductor#microscopy

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