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シリコンウエハー上のフォトリソグラフィマスクパターンのクローズアップ

尺
10s
解像度
3840x2160
フレームレート
24fps
ファイルサイズ
179 MB

✦元素材 1920×1080 を AI高解像度化(アップスケール)により 4K に高精細化しています。 ネイティブ4K撮影素材ではありません。

カテゴリテクノロジー
タグ#photolithography#silicon wafer#mask patterns#microscopy#technology#electronics#circuit design#manufacturing#semiconductors#close-up#high-tech#precision#substrate#wafer fabrication#optical projection#cleanroom#chip production#engineering#high resolution#science#research#industrial#photomask#microelectronics#semiconductor industry#production process#patterning#interactive design#high detail#technology background#data processing#ic fabrication#nanotechnology#wafer technology#photoresist#lithography process#engineering precision#system design#optical engineering#manufacturing process#digital design#industrial engineering#workflow#advanced manufacturing#high-precision#tools#equipment#フォトリソグラフィ#シリコンウエハー#マスクパターン#顕微鏡#テクノロジー#電子#回路設計#製造#半導体#クローズアップ#ハイテク#精密#基板#ウエハー製造#光学投影#クリーンルーム#チップ生産#エンジニアリング#科学#研究#産業#フォトマスク#マイクロエレクトロニクス#半導体産業#生産プロセス#パターン形成#インタラクティブデザイン#高精細#テクノロジーバックグラウンド#データ処理#ic製造#ナノテクノロジー#ウエハーテクノロジー#フォトレジスト#リソグラフィプロセス#エンジニアリング精度#システム設計#光学エンジニアリング#製造プロセス#デジタル設計#産業エンジニアリング#ワークフロー#先進製造#高精度#ツール#設備

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